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micro resist technology GmbH致力於開發,生產和銷售創新型光阻劑,高分子材料及光敏聚合物,是領先行業的公司之一。

微型光刻膠技術有限公司是創新光刻膠,聚合物和光敏聚合物的全球領先公司之一。

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團隊

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micro resist technology GmbH(MRT)位於德國柏林,成立於1993年,約有50多名員工,其中。MRT是全球創新型光阻劑,高分子和光敏聚合物產業中技術領先公司之一,為當前關鍵技術和未來增長的市場需求提供廣泛的專用產品。

MRT的產品應用於微電子/光電,微奈米製造,微奈米科技以及生命科學。為全球高科技應用領域服務,MRT的產品具體實現深/極紫外光,雷射光,X射線和電子束微影蝕刻,奈米壓印微影以及相關微結構圖案化技術等製程。

MRT的客戶為全球從事創新微奈米製造相關公司以外,還包括先進的研究機構和大學,我們樂於在技術開發的早期階段就為客戶提供支持。MRT在於處理光刻劑,高分子材料和光敏聚合物方面的核心能力往往能獲得客戶高度讚賞,因此MRT產品經常出現於學術論文期刊等。我們的目標是協助客戶在研發過程中迅速取得成功並保持熱情。作為可靠且經驗豐富的合作夥伴,MRT還可提供與產品相關的光刻服務。

 

公司已取得的認證標準:                                               ISO 9001:2015 及 ISO 14001:2015

產品線

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產品選擇

 

負型光阻劑

用於紫外光(光罩對準曝光機,雷射光)/ 深紫外光及電子束顯影的光阻劑。

正型光阻劑

用於紫外光微影(光罩對準曝光機,雷射,灰階曝光)和電子束微影的正型光阻劑。

混成高分子材料

MRT為微光學應用領域提供廣泛的紫外光固化有機/無機材料混成高分子材料品類。

奈米壓印微影

奈米壓印微影蝕刻(NIL)是一種直接,低成本,高生產能力的技術,可用於製造奈米尺度的圖案。

噴墨打印功能材料

由混成高分子材料,光阻劑和奈米壓印聚合物產品特別設計的功能性材料,利用噴墨印刷製程進行沉積和替代性微結構